HYDRO探針式殘差分析儀RPH-261

測量是連續(xù)的，不依賴于采樣和保持方法，因此可以實(shí)現(xiàn)更好的過程控制。消毒探頭易于使用、易于維修且維護(hù)成本低。

RPH-260 可在軟件中執(zhí)行 pH 補(bǔ)償，并具有內(nèi)部數(shù)據(jù)記錄功能。

消毒劑測量探頭對(duì)壓力和流量波動(dòng)很敏感。因此，保持恒定的樣品水壓、流速和避免氣泡至關(guān)重要。為此，我們提供兩種類型的流量測量單元。帶有氣泡捕集器和錯(cuò)流插件的開放式流通池適用于大多數(shù)探頭，而封閉式流通池則用于使用帶有裸電極和清潔頭的 F3 游離氯探頭的設(shè)置。與 F3 游離氯探頭一起使用的清潔頭需要稍高的樣品水流速和壓力，因此這些探頭安裝在封閉的流通池中。清潔頭用于保持裸電極清潔無氣泡。

• 電流探針式殘差分析儀
• 探頭式殘差測量：

游離氯

總氯

二氧化氯

亞氯酸鹽

臭氧

過氧化氫

過氧乙酸

溴

• 圖形彩色顯示屏（320 x 240 像素）
• 透明亞克力流通池
• 簡單的校準(zhǔn)和維護(hù)
• 可用范圍（游離 Cl₂）：

0-0.5、0-2、0-5、0-10、0-20 和 0-200 PPM

• 可用范圍（總 Cl₂）：

0-0.5、0-2、0-5、0-10、0-20 PPM

• 包含標(biāo)準(zhǔn)：

溫度補(bǔ)償

四 (4) 個(gè)可編程 4-20 mA 輸出

四 (4) 個(gè)可編程警報(bào)繼電器

RS485 Modbus 通訊

自動(dòng) pH 補(bǔ)償軟件

• 可用選項(xiàng)：

帶流通池的第二個(gè)消毒劑探頭

pH 電極

ORP 電極

數(shù)據(jù)記錄儀

樣品水流開關(guān)

• NEMA4X (IP66) 額定控制器
• 100-250 伏交流電（50-60 赫茲）
• 1 安培， 24 瓦
• 可選擇支持 Profibus 通信